微膨脹金屬網作為EMI屏蔽的關鍵材料

背景技術隨著電子設備的增加和無線通信的急劇擴展,電磁干擾問題變得越來越重要。 EMI不僅可能影響設備性能,還可能影響通信、醫療設備、軍事系統和其他領域。因此,確保電子設備能夠在複雜的電磁環境中正常工作變得至關重要。

微型膨脹金屬網 作為一種電磁屏蔽 ,其重要性日益凸顯。它可以幫助防止電磁干擾,並確保設備的可靠性。它具有輕巧的結構,堅固的完整性,均勻的表面,連續且穩定的開口以及可定製的靈活性。

材料

用作電磁屏蔽網的微膨脹金屬網可以由各種金屬材料製成,例如銅,鋁,鎳和蒙奈爾合金。銅是最廣泛使用的類型。我們的微膨脹金屬網的銅含量高於99.7% (經濟) 和99.9% (最佳屏蔽效率),並且所有這些都符合RoHS。

鋁微膨脹金屬網

鎳微膨脹金屬網

銅微膨脹金屬網

規格

參考規格的普通微膨脹金屬網:
- 材質:鋁、鎳、銅、蒙奈爾或其他材料
- 標準厚度:0.05毫米或0.07毫米
- 網孔:菱形孔
參考規格的銅微膨脹金屬網:
- 網目尺寸 (SWD × LWD):0.3毫米 × 0.5毫米、1毫米 × 2毫米、2毫米 × 3毫米、3毫米 × 6毫米、4毫米 × 8毫米 (支持定製)
- 厚度:0.025毫米-2.0毫米
- 磁場指數:磁場 : 450 KHz ≥ 55 dB; 平面波: 50 MHz ≥ 85 dB; 微波: 1 GHz ≥ 65 dB

用於EMI屏蔽的微型膨脹金屬網規範
項目	材料	厚度 (Mm)	重量 (克/平方米)	開放區域 (%)	屏蔽效能 (DB)
項目	材料	厚度 (Mm)	重量 (克/平方米)	開放區域 (%)	100 MHz	1 GHz	10 GHz
BDES-01	銅	0.05	215	53	72	53	444
BDES-02	銅	0.07	245	64	60	42	25
BDES-03	鋁	0.05	65	53	70	51	32
BDES-04	鋁	0.07	74	64	58	41	23
BDES-05	Ni	0.05	214	53	60	46	28
BDES-06	Ni	0.07	243	64	54	40	24
BDES-07	蒙奈爾	0.05	271	53	67	53	36
BDES-08	蒙奈爾	0.07	395	64	63	46	30

特點

應用程序

微型膨脹金屬網廣泛應用於科學研究,醫療設備,高科技抗電磁干擾工程,航空航天,軍事和政府機構以及其他需要電磁屏蔽的環境。針對不同的應用領域對電磁屏蔽領域的要求是不同的:

法拉第籠

軍事屏蔽

醫用屏蔽

電磁屏蔽網選擇原則

電導率和滲透率的權衡。
材料的電導率和磁導率對屏蔽效果至關重要。該材料的良好導電性適用於電場輻射源,例如銅。該材料良好的磁導率適用於磁場輻射源,如鐵。
電導率和滲透率的權衡。
材料的選擇應基於輻射源的特性。對於電場輻射源,反射損耗較大,因此需要選擇電導率較高的材料。對於磁場輻射源,屏蔽主要取決於材料的吸收損耗,因此應使用磁導率較高的材料。
頻率的影響。
在高頻下,屏蔽機制主要取決於吸收損耗,與輻射源的電場或磁場的性質關系不大。因此,材料的吸收性能變得至關重要。
低頻磁場難以屏蔽。
低頻磁場 (尤其是低於1 khz的磁場) 很難屏蔽。應對低頻磁場可能需要使用高導電材料、高導電材料或甚至兩者的複合材料。

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